檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "Pad".ekeyword (精準) and year="108"
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在化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/ Polishing, CMP)製程中，需要鑽石修整器來維持拋光墊表面之穩定性，而拋光墊表面形貌會直接影響…
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本研究延續蔡明城開發之動態量測拋光墊性能指標系統，透過彩色共軛焦感測器架設於CMP機台上，利用拋光機盤面旋轉與搖臂搖擺達到拋光墊大面積掃描，利用自製軟體分析其表面訊號，計算拋光墊非均勻度(PU)、壽…
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形態和功能生物學變化，是衰老迅速增長相關的主要挑戰之一；老年人身體能力的下降，明顯地增加較長的就座時間，如何將座椅的設計融入到適合個人需求的座椅工具上將是非常重要。然而，座椅設計本身並不具備便攜式用…
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本研究先建立室溫下不同體積濃度之無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓的研磨移除深度理論模擬模式。我們將矽晶圓浸泡在常溫下不同體積濃度研磨液後,接著進行原子力顯微鏡實驗,計算得出浸泡室溫不同體積濃度…